摘要: 应用正电子湮没寿命谱研究了十二种典型镍镀层的结构缺陷。根据电沉积镍含有杂质的特点, 采用四态模型对寿命谱进行理论分析。
利用寿命谱二组分拟合结果计算了未退火试样的类空位和类微洞的浓度。
研究了第10号试样的退火行为, 根据有关的湮没参数与退火温度的关系曲线, 推断出镀层中的氢既以吸附态形式存在于微洞也以固溶态的形式存在于空位, 同时也观察到在退火过程中空位热迁移并入微洞和镀层杂质发生化学聚团作用的现象。
姚士冰;陈荣钦;方江陵;陈秉彝;钟灿兴;周绍民. 用正电子湮没寿命谱法研究电沉积镍结构缺陷[J]. 物理化学学报, 1985, 1(03): 215-221.
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