物理化学学报 >> 1990, Vol. 6 >> Issue (04): 418-424.doi: 10.3866/PKU.WHXB19900407
辛勤; 魏昭彬; 张卫民; 盛世善
Xin Qin; Wei Zhao-Bin; Zhang Wei-Min; Sheng Shi-Shan
摘要: 本文利用NO或/和CO吸附的TPD-MS方法, 结合IR和XPS对还原态的Co, Mo, Co-Mo/Al_2O_3催化剂进行了深入考索. 结果表明, 还原态的Co-Mo/Al_20_3表面上存在着两种吸附NO的Mo中心. 弱吸附NO(T_(max)为100 ℃)可被吸附的CO取代和强吸附NO(T_(max)为300 ℃)不能被CO取代. 同时存在三种吸附NO的CO中心, T_(max)分别为80 ℃、180 ℃和330 ℃. 前两者能吸附CO, 后者只吸附NO. IR结果对这些不同的Mo中心和Co中心的存在提供了进一步旁证. XPS结果表明提高还原温度, Mo/Al比保持恒定, 但Mo~(4+)浓度增加, 而Co/Al比却因部分Co进入Al_2O_3体相而降低。