物理化学学报 >> 1990, Vol. 6 >> Issue (04): 474-479.doi: 10.3866/PKU.WHXB19900416
魏昭彬; 辛勤; Sham, E.L.; Grange, P.; Delmon, B.
Wei Zhao-Bin; Xin Qin; Sham, E.L.; Grange, P.; Delmon, B.
摘要: 本文运用AEM方法考察了制备技术对TiO_2在Al_2O_3表面分散状态的影响. 发现嫁接法可使TiO_2非常均匀地分散在Al_2O_3表面上, 浸渍法也能得到较为均匀的TiO_2分布, 而沉淀法所得到的TiO_2分散度较差. TiO_3只聚集在Al_20_3表面上的局部区域。