物理化学学报 >> 1992, Vol. 8 >> Issue (02): 212-217.doi: 10.3866/PKU.WHXB19920214
邓向阳; 刘旦初
Deng Xiang-Yang; Liu Dan-Chu
摘要: 用程序升温表面反应(TPSR)和程序升温还原(TPR)以及过渡应答(TR)等动态手段研究Ni/Al_2O_3催化剂表面上CO氢化反应的活性位状况。结果表明, 催化剂表面存在两种类型的活性位。其中A位来自表面上的聚晶体Ni, B位来自Ni与载体Al_2O_3强相互作用形成的Ni-Al化合物。实验结果还表明, CO在两个活性位都有吸附, 但在有H_2参与的条件下, 会影响二个活性位上的CO吸附量。