物理化学学报 >> 2001, Vol. 17 >> Issue (09): 781-787.doi: 10.3866/PKU.WHXB20010904
陈德文;刘延秋;易筱筠;徐广智
Chen De-Wen;Liu Yan-Qiu;Yi Xiao-Yun;Xu Guang-Zhi
摘要: 用ESR方法研究了硫化镉超微粒子表面被不同浓度的过剩硫离子S2-改性后对其光诱导电子转移及底物的氧化还原反应进程的影响.结果表明,在较高浓度下光还原反应易于进行.若所用底物的氧化还原电位E0为负值,在无过剩S2-存在及低浓度S2-环境中不发生光还原反应,但却可在高浓度S2-环境发生反应; 若底物的E0为正值,则在无硫离子及较低硫离子浓度下能够发生的光氧化反应,在高浓度时则被完全抑止.这是由于表面过剩S2-的作用,改变了底物的氧化还原电位与半导体超细微粒带隙间的匹配关系.根据Langmuir 等温吸附模型,进一步导出了修饰物的浓度c与平带电位负移值间的关系表达式ΔEfb=Δ Kc/(1+Kc).可以合理解释修饰物 S2-的浓度越高,Efb负移越大,越有利于光还原反应的实验事实.因此根据需要,适当地选择修饰物并控制浓度,使带隙位置与底物氧化还原电位间能有合适的匹配,有助于调节光化学反应的选择性与方向.