物理化学学报 >> 2008, Vol. 24 >> Issue (04): 612-618.doi: 10.3866/PKU.WHXB20080412
田颖; 李浙齐; 徐洪峰; 吴艳波; 杨凤林
TIAN Ying; LI Zhe-Qi; XU Hong-Feng; WU Yan-Bo; YANG Feng-Lin
摘要: 以对甲基苯磺酸钠(p-TSNa)为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯(PPy)修饰膜, 采用循环伏安法在-1.6 - 0.8 V大范围扫描研究了修饰膜在H2SO4、Na2SO4、NaOH电解质溶液中的氧化还原行为. 结果表明, 在H2SO4溶液中, 以H+的脱出(氧化)/嵌入(还原)为特征, 并发现聚吡咯在酸性溶液中所特有的质子还原峰. 在Na2SO4和NaOH溶液中, 以Na+的脱出(氧化)/嵌入(还原)峰为特征. FT-IR吸收光谱显示, 经NaOH处理后, 聚吡咯膜的长共轭结构被完全破坏, 而经H2SO4和Na2SO4处后, 膜的共轭结构未发生变化.
MSC2000: