(1) Welton, T. Chem. Rev. 1999, 99, 2071. 
(2) Endo, T.; Kato, T.; Nishikawa, K. J. Phys. Chem. B 2010, 114, 9201. 
(3) Yang, Y. K.; Qiu, S. Q.; He, C. G.; He,W. J.; Yu, L. J.; Xie, X. L. Appl. Surf. Sci. 2010, 257, 1010. 
(4) Shokouhi, M.; Adibi, M.; Jalili, A. H.; Hosseini-Jenab, M.; Mehdizadeh, A. J. Chem. Eng. Data 2010, 55, 1663. 
(5) Wang, Y.; Han, J. A.; Xie, X. Q.; Li, C. X. Cent. Eur. J. Chem. 2010, 8, 1185. 
(6) Du, P.; Liu, S. N.;Wu, P.; Cai, C. X. Electrochim. Acta 2007, 52, 6534. 
(7) Qiu, Z. M.; Texter, J. Curr. Opin. Colloid Interface Sci. 2008, 13, 252. 
(8) Shangguan, X. D.; Tang, H. S.; Liu, R. X.; Zheng, J. B. J. Anal. Chem. 2010, 38, 1510.
(9) Trombetta, F.; de Souza, M. O.; de Souza, R. F.; Martini, E. M. A. J. Appl. Electrochem. 2009, 39, 2315. 
(10) Dorbritz, S.; Ruth,W.; Kragl, U. Adv. Synth. Catal. 2005, 347, 1273. 
(11) Katayanagi, H.; Nishikorbritz, K.; Shimozaki, H.; Miki, K.; Westh, P.; Koga, Y. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 19451. 
(12) Malham, I. B.; Letellier, P.; Turmine, M. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 14212. 
(13) Archer, D. G.;Widegren, J. A.; Kirklin, D. R.; Magee, J.W. J. Chem. Eng. Data 2005, 50, 1484. 
(14) Bowers, J.; Butts, C. P.; Martin, P. J.; Vergara-Gutierrez, M. C.; Heenan, R. K. Langmuir 2004, 20, 2191. 
(15) Dong, B.; Li, N.; Zheng, L. Q.; Yu, L.; Inoue, T. Langmuir 2007, 23, 4178. 
(16) Bouchemal, K.; Agnely, F.; Koffi, A.; Djabourov, M.; Ponchel, G. J. Mol. Recognit. 2010, 23, 335.
(17) Bai, G. Y.; Lopes, A.; Bastos, M. J. Chem. Thermodyn. 2008, 40, 1509. 
(18) Guan,W.;Wang, H.; Li, L.; Zhang, Q. G.; Yang, J. Z. Thermo. Acta 2005, 437, 196. 
(19) Luczak, J.; Jungnickel, C.; Joskowska, M.; Thoming, J.; Hupka, J. J. Colloid Interface Sci. 2009, 336, 111. 
(20) Stodghill, S. P.; Smith, A. E.; O'Haver, J. H. Langmuir 2004, 20, 11387. 
(21) Fang, Y.; Liu, X. F.; Xia, Y. M.; Yang, Y.; Cai, K.; Suh, J. M.; Cho, H. Y. Acta Phys. -Chim. Sin. 2001, 17, 828. [方云, 刘雪峰, 夏咏梅, 杨扬, 蔡琨, 徐廷穆, 赵宪英. 物理化学学报, 2001, 17, 828.]
(22) Molina-Bolivar, J. A.; Hierrezuelo, J. M.; Ruiz, C. C. J. Colloid Interface Sci. 2007, 313, 656. 
(23) Vanyur, R.; Biczok, L.; Miskolczy, Z. Colloid Surf. APhysicochem. Eng. Asp. 2007, 299, 256. 
(24) Klevens, H. B. J. Am. Oil Chem. Soc. 1953, 30, 74. 
(25) Zhao, G. X. Physcal Chemistry of Surfacatants; Peking Universtity Press: Beiijing, 1991; pp 137-143. [赵国玺. 表面活性剂物理化学. 北京: 北京大学出版社, 1991: 137-143.]
(26) Bouchemal, K.; Agnely, F.; Koffi, A.; Djabourov, M.; Ponchel, G. Drug Discov. Today 2008, 13, 960. 
(27) Tokuda, H.; Hayamizu, K.; Ishii, K.; Susan, M.;Watanabe, M. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 6103. 
(28) Sehgal, P.; Sharma, M.; Larsen, K. L.;Wimmer, R.; Otzen, D. E.; Doe, H. J. Dispersion Sci. Technol. 2008, 29, 128. 
(29) Kresheck, G. C. J. Phys. Chem. B 2009, 113, 6732. 
(30) Fernandes, R. M. F.; Marques, E. F.; Silva, B. F. B.;Wang, Y. J. J. Mol. Liq. 2010, 157, 113. 
(31) Du, J.; Jiang, B. Y.; Xie, J. Q.; Zeng, X. C. J. Dispersion Sci. Technol. 2001, 22, 529. 
(32) Chandra, A. K.; Turro, N. J.; Lyons, A. L.; Stone, P. J. Am. Chem. Soc. 1978, 100, 4964. 
(33) Russell, J. C.;Wild, U. P.; Whitten, D. G. J. Phys. Chem. 1986, 90, 1319. 
(34) Wang, J. J.;Wang, H. Y.; Zhang, S. L.; Zhang, H. H.; Zhao, Y. J. Phys. Chem. B 2007, 111, 6181. 
(35) Hadgiivanova, R.; Diamant, H. J. Phys. Chem. B 2007, 111, 8854. 
(36) Goodchild, I.; Collier, L.; Millar, S. L.; Prokes, I.; Lord, J. C. D.; Butts, C. P.; Bowers, J.;Webster, J. R. P.; Heenan, R. K. J. Colloid Interface Sci. 2007, 307, 455.  |