物理化学学报 >> 2008, Vol. 24 >> Issue (03): 416-422.doi: 10.3866/PKU.WHXB20080311
童希立; 赵国华; 肖小娥; 胡惠康
TONG Xi-Li; ZHAO Guo-Hua; XIAO Xiao-E; HU Hui-Kang
摘要: 采用微分脉冲阳极溶出伏安法, 研究了Ag+、Cu2+、Pb2+、Sn2+、Cd2+等多种共存金属离子在掺硼金刚石(BDD)表面双金属共沉积-共溶出电化学行为. 结果表明, 双金属在掺硼金刚石膜表面的共沉积-共溶出模型是由金属本身的析出电位, 金属之间的相互作用, 金属离子和溶液间的相互作用等多种因素决定的. 微分阳极溶出法的研究结果表明, 双金属在掺硼金刚石电极上的共沉积-共溶出过程表现出金属1溶出-金属2溶出、金属1溶出-析氢-金属2溶出、金属1溶出-金属合金溶出-金属2溶出、金属1溶出-析氢-金属2络合物形成-金属2溶出等四种模型.
MSC2000: