(1) Rodrigues, V.; Ugarte, D. Eur. Phys. J. D 2001, 16, 395.
(2) Rodrigues, V.; Fuhrer, T.; Ugarte, D. Phys. Rev. Lett. 2000, 85, 4124.
(3) Ohnishi, H.; Kondo, Y.; Takayanagi, K. Nature 1998, 395, 780.
(4) Diao, J. K.; Gall, K.; Dunn, M. L. J. Mech. Phys. Solids 2004, 52, 1935.
(5) Diao, J.; Gall, K.; Dunn, M. L. Nano Lett. 2004, 4, 1863.
(6) Lin, J. S.; Ju, S. P.; Peng, Y. L.; Lee,W. J. Progress on Advanced Manufacture for Micro/Nano Technology 2005, Pt 1; 2 2006, 505-507, 385.
(7) Sato, K.; Huang,W. J.; Bohra, F.; Sivaramakrishnan, S.; Tedjasaputra, A. P.; Zuo, J. M. Phys. Rev. B 2007, 76, 144113.
(8) Nosé, S. J. Chem. Phys. 1984, 81, 511.
(9) Hoover,W. G. Phys. Rev. A 1985, 31, 1695.
(10) Rapaport, D. C. The Art of Molecular Dynamics Simulation. 2nd ed. 2004; Cambridge University: Cambridge, p 49.
(11) Verlet, L. Phys. Rev. 1967, 159, 98.
(12) Johnson, R. A. Phys. Rev. B 1988, 37, 6121.
(13) Johnson, R. A. Phys. Rev. B 1988, 37, 3924.
(14) Liu, Y. H.; Zhao, J.W.;Wang, F. Y. Phys. Rev. B 2009, 80, 115417.
(15) Liu, Y. H.;Wang, F. Y.; Zhao, J.W.; Jiang, L. Y.; Kiguchi, M.; Murakoshi, K. Phys. Chem. Chem. Phys. 2009, 11, 6514.
(16) Wang, D. X.; Zhao, J.W.; Hu, S.; Yin, X.; Liang, S.; Liu, Y. H.; Deng, S. Y. Nano Lett. 2007, 7, 1208.
(17) Bahn, S. R.; Jacobsen, K.W. Phys. Rev. Lett. 2001, 87, 266101.
(18) Rodrigues, V.; Ugarte, D. Phys. Rev. B 2001, 63, 073405.
(19) Takai, Y.; Kawasaki, T.; Kimura, Y.; Ikuta, T.; Shimizu, R. Phys. Rev. Lett. 2001, 87, 106105.
(20) Coura, P. Z.; Legoas, S. B.; Moreira, A. S.; Sato, F.; Rodrigues, V.; Dantas, S. O.; Ugarte, D.; Galvao, D. S. Nano Lett. 2004, 4, 1187. |