(1) Yang, Y. S.; Zhang, L.;Wen, Y. H.; Cheng, J.; Cao, G. P. Chin. J. Power Sources 2007, 31, 175.
(2) Dell, R. M. Solid State Ionics 2000, 134, 139.
(3) Pan, J. Q.; Sun, Y. Z.;Wang, Z. H.;Wan, P. Y.; Liu, X. G.; Fan, M. H. J. Mater. Chem. 2007, 17, 4820.
(4) Bae, C. H.; Roberts, E. P. L.; Dryfe, R. A.W. Electrochim. Acta 2002, 48, 279.
(5) Thaller, L. H. Electrically Rechargeable Redox Flow Cell. US Patent 3996064, 1974.
(6) Wang,W. H.;Wang, X. D. Electrochim. Acta 2007, 52, 6755.
(7) Wen, Y. H.; Zhang, H. M.; Qian, P.; Zhao, P.; Zhou, H. T.; Yi, B. L. Acta Phys.-Chim. Sin. 2006, 22, 403.
(8) Zhao, P.; Zhang, H. M.; Zhou, H. T.; Chen, J.; Gao, S. J.; Yi, B. L. J. Power Sources 2006, 162, 1416.
(9) Skyllas-Kazacos, M. J. Power Sources 2003, 124, 299.
(10) Oriji, G.; Katayama, Y.; Miura, T. Electrochim. Acta 2004, 49, 3091.
(11) Hazza, A.; Pletcher, D.;Wills, R. Phys. Chem. Chem. Phys. 2004, 6, 1773.
(12) Pletcher, D.;Wills, R. Phys. Chem. Chem. Phys. 2004, 6, 1779.
(13) Pletcher, D.;Wills, R. J. Power Sources 2005, 149, 96.
(14) Hazza, A.; Pletcher, D.;Wills, R. J. Power Sources 2005, 149, 103.
(15) Pletcher, D.; Zhou, H. T.; Kear, G.; John, Low C. T.;Walsh, F. C.;Wills, R. G. A. J. Power Sources 2008, 180, 621.
(16) Pletcher, D.; Zhou, H. T.; Kear, G.; John, L. C. T.;Walsh, F. C.; Wills, R. G. A. J. Power Sources 2008, 180, 630.
(17) Li, X. H.; Pletcher, D.;Walsh, F. C. Electrochim. Acta 2009, 54, 4688.
(18) Collins, J.; Kear, G.; Li, X. H.; Low, C. T. J.; Pletcher, D.; Tangirala, R.; Duncan,S.C.;Walsh, F. C.; Zhang, C. P. J. Power Sources 2010, 195, 1731.
(19) Zeng, H. L.;Wu, Z. D.; Chen, J.W.; Lǚ, P. R.; Qin. Y.W. Handbook of Electroplate Technology, 2nd ed.; China Machine Press: Beijing, 1997; pp 243-245. [曾华梁, 吴仲达, 陈钧武, 吕佩仁, 秦月文. 电镀工艺手册. 第二版. 北京: 机械工业出版社, 1997: 243-245.]
(20) Bernardi, D.; Pawlikowski, E.; Newman, J. J. Electrochem. Soc. 1985, 132, 5.  |