物理化学学报 >> 2006, Vol. 22 >> Issue (09): 1132-1136.doi: 10.3866/PKU.WHXB20060919
李德宝;齐会杰;李文怀;孙予罕;钟炳
LI De-Bao;QI Hui-Jie;LI Wen-Huai;SUN Yu-Han;ZHONG Bing
摘要: 制备了不同含量Ni改性的K2CO3/MoS2(ADM)低碳醇催化剂, 通过XRD、BET、XPS等表征技术考察了模型催化剂的表面结构和电子特征, 结果表明在ADM催化剂中Ni助剂主要以Ni-Mo-S配位结构和独立的NiSx两种形式存在. 在nNi/nMo<1/3时, Ni-Mo-S配位结构为主要存在形式, 催化剂表面Ni含量低于体相. 随着Ni含量的提高, Ni与MoS2配位逐渐饱和, NiSx独立相逐步形成并导致Ni的表面富集, 同时Ni的富集导致ADM催化剂形成富含S和K的表面化学环境. 作为供电子助剂, Ni-Mo-S结构对应于强的电子作用, 而独立NiSx与MoS2之间的电子作用较弱. 随Ni含量的增加Ni与MoS2之间的电子作用呈现由强变弱的规律, 反映了Ni与MoS2配位饱和与独立NiSx相的形成过程.