(1) Hoffmann, M. R.; Martin, S. T.; Choi, W.; Bahnemann, D. W. Chem. Rev. 1995, 95, 69.
(2) Xu, J. J.; Ao, Y. H.; Fu, D. G.; Yuan, C. W. Appl. Surf. Sci. 2008, 254, 3033.
(3) Tang, J. W.; Quan, H. D.; Ye, J. H. Chem. Mater. 2007, 19, 116.
(4) Li, J. Y.; Ma, J. H.; Bai, T. Y.; Suyou, L. M. Acta Phys.-Chim. Sin. 2007, 23, 1213.
[李静谊, 马俊华, 白图雅, 苏优乐玛. 物理化学学报, 2007, 23, 1213.]
(5) Li, D.; Ohashi, N.; Hishita, S.; Kolodiazhnyi, T.; Haneda, H. J. Solid State Chem. 2005, 178, 3293.
(6) Li, D.; Haneda, H.; Labhsetwar, N. K.; Hishita, S.; Ohashi, N. Chem. Phys. Lett. 2005, 401, 579.
(7) Ho, W.; Yu, J. C.; Lee, S. Chem. Commun. 2006, 1115.
(8) Ren, G.; Gao, Y.; Liu, X. ; Xing, A.; Liu, H.; Yin, J. Reac. Kinet. Mech. Cat. 2010, 100, 487.
(9) Wang, Q.; Chen, C.; Zhao, D.; Ma, W.; Zhao, J. Langmuir 2008, 24, 7338.
(10) Huang, D. G.; Liao, S. J.; Dang, Z. Acta Chim. Sin. 2006, 64, 1805.
[黄冬根, 廖世军, 党 志. 化学学报, 2006, 64, 1805.]
(11) Ren, D. S.; Cui, X. L.; Zhang, Q.; Yang, X. L.; Zhang, Z. J. Vac. Sci. Technol. (China) 2002, 22, 421.
[任达森, 崔晓莉, 张 群, 杨锡良, 章壮健. 真空科学与技术, 2002, 22, 421.]
(12) Park, H.; Choi, W. J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 4086.
(13) Zhu, S. Y.; Huo, M. X.; Zhang, L. L.; Yu, Q.; Wang, T. Z. Science and Technology Review 2010, 28, 112.
[朱遂一, 霍明昕, 张蕾蕾, 于 琪, 王天竹. 科技导报, 2010, 28, 112.]
(14) Bezrodna, T.; Puchkovska, G.; Shimanovska, V.; Chashechnikova, I.; Khalyavka, T.; Baran, J. Appl. Surf. Sci. 2003, 214, 222.
(15) Hung, W. C.; Fu, S. H.; Tseng, J. J.; Chu, H.; Ko, T. H. Chemosphere 2007, 66, 2142.
(16) Su, H. D. Preparation and Photocatalytic Activity of Titanium Dioxide Photocatalyst. Ph. D. Dissertation, Northeastern University, Liaoning, 2005.
[苏会东. 二氧化钛光催化剂的制备及其性能研究
[D]. 辽宁: 东北大学, 2005.]
(17) Chen, Y. M.; Zhong, J.; Chen, F.; Zhang, J. L. Chin. J. Catal. 2010, 31, 120.
[陈艳敏, 钟 晶, 陈 锋, 张金龙. 催化学报, 2010, 31, 120.]
(18) Czoska, A. M.; Livraghi, S.; Chiesa, M.; Giamello, E.; Agnoli, S.; Granozzi, G.; Finazzi, E.; Di Valentin, C.; Pacchioni, G. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 8951.
(19) Zhu, M. H. Instrumental Analysis, 3rd ed.; Higher Education Press: Beijing, 2000; p 275.
[朱明华. 仪器分析(第三版); 北京: 高等教育出版社, 2000: 275.]
(20) Yu, J. C.; Yu, J. G.; Ho, W.; Jiang, Z.; Zhang, L. Chem. Mater. 2002, 14, 3808.
(21) Liu, G.; Wu, T.; Zhao, J.; Hidaka, H.; Surpone, N. Environ. Sci. Technol. 1999, 33, 2081.
(22) Chen, C.; Zhao, W.; Li, J.; Zhao, J. C.; Hidaka, H.; Surpone, N. Environ. Sci. Technol. 2002, 36, 3604.
(23) Christine, M. D.; Joseph, R.; Jacques, J. V. Inorg. Chem. 1987, 26, 1212.
(24) Arichi, J.; Louis, B. Cryst. Growth Des. 2008, 8, 3999.
(25) Louis, B.; Lioubov K.-M. Microporous Mesoporous Mat. 2004, 74, 171.
(26) Minero, C.; Mariella, G.; Maurino, V.; Pelizzetti, E. Langmuir 2000, 16, 2632.
(27) Vohra, M.; Kim, S.; Choi, W. J. Photochem. Photobiol. A 2003, 160, 55.
(28) Morrison, S. R. Electrochemistry at Semiconductor and Oxidized Metal Electrodes; Plenum Press: New York, 1980; p 154.
(29) You, X. F.; Chen, F.; Zhang, J. L.; Huang, J. Z.; Zhang, L. Z. Chin. J. Catal. 2006, 27, 270.
[尤先锋, 陈 锋, 张金龙, 黄家桢, 张利中. 催化学报, 2006, 27, 270.] |