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物理化学学报  2017, Vol. 33 Issue (5): 853-854    DOI: 10.3866/PKU.WHXB201703171
亮点     
自下而上法制备硫掺杂石墨烯薄膜应用于微型超级电容器
刘忠范
Bottom-Up Fabrication of Sulfur-Doped Graphene Films for Micro-Supercapacitors
Zhong-Fan LIU
 全文: PDF(681 KB)   HTML 输出: BibTeX | EndNote (RIS) |
出版日期: 2017-03-17
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刘忠范

引用本文:

刘忠范. 自下而上法制备硫掺杂石墨烯薄膜应用于微型超级电容器[J]. 物理化学学报, 2017, 33(5): 853-854.

Zhong-Fan LIU. Bottom-Up Fabrication of Sulfur-Doped Graphene Films for Micro-Supercapacitors. Acta Physico-Chimica Sinca, 2017, 33(5): 853-854.

链接本文:

http://www.whxb.pku.edu.cn/CN/10.3866/PKU.WHXB201703171        http://www.whxb.pku.edu.cn/CN/Y2017/V33/I5/853

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