三甲基氯硅烷对纳米多孔二氧化硅薄膜的修饰
王娟;张长瑞;冯坚
Modification of Nanoporous Silica Film by Trimethylchlorosilane
Wang Juan; Zhang Chang-Rui; Feng Jian
物理化学学报 . 2004, (12): 1399 -1403 .  DOI: 10.3866/PKU.WHXB20041201