(1) Barrelet, C. J.; Greytak, A. B.; Lieber, C. M. Nano Lett. 2004, 4, 1981.
(2) Schlamp, M. C.; Peng, X. G.; Alivisatos, A. P. J. Appl. Phys. 1997, 82, 5837.
(3) Hirai, T.; Suzuki, K.; Komasawa, I. J. Colloid Interface Sci. 2001, 244, 262.
(4) Cui, H. N.; Xi, S. Q. Thin Solid Films 1996, 288, 325.
(5) Pan, A. L.; Liu, R. B.; Yang, Q.; Zhu, Y. C.; Yang, G. Z.; Zou, B. S.; Chen, K. Q. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 24268.
(6) Zhai, T. Y.; Fang, X. S.; Bando, Y.; Liao, Q.; Xu, X. J.; Zeng, H. B.; Ma, Y.; Yao, J. N.; Golberg, D. ACS Nano 2009, 3, 949.
(7) Cheng, Y.; Wang, Y. S.; Bao, F.; Chen, D. Q. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 9448.
(8) Liang, Y. Q.; Zhen, C. G.; Zou, D. C.; Xu, D. S. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 16338. doi: 10.1021/ja044545v
(9) Wang, C. Z.; E, Y. F.; Fan, L. Z.; Wang, Z. H.; Liu, H. B.; Li, Y. L.; Yang, S. H.; Lin, Y. L. Adv. Mater. 2007, 19, 3677. doi: 10.1002/adma.200701386
(10) Gao, T.; Wang, T. H. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 20045. doi: 10.1021/jp047519s
(11) Hernandez-Contreras, H.; Mejía-García, C.; Contreras-Puente, G. Thin Solid Films 2004, 451 -452, 203.
(12) Singh, V.; Singh, B. P.; Sharma, T. P.; Tyagi, R. C. Opt. Mater. 2002, 20, 171. doi: 10.1016/S0925-3467(02)00043-5
(13) Uda, H.; Yonezawa, H.; Ohtsubo, Y.; Kosaka, M.; Sonomura, H. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2003, 75, 219. doi: 10.1016/S0927-0248(02)00163-0
(14) Yu, S. H.; Wu, Y. S.; Yang, J.; Han, Z. H.; Xie, Y.; Qian, Y. T.; Liu, X. M. Chem. Mater. 1998, 10, 2309. doi: 10.1021/cm980181s
(15) Romeo, N.; Bosio, A.; Tedeschi, R.; Canevari, V. Mater. Chem. Phys. 2000, 66, 201. doi: 10.1016/S0254-0584(00)00316-3
(16) Zhang, Q. B.; Feng, Z. F.; Han, N. N.; Lin, L. L.; Zhou, J. Z.; Lin, Z. H. Acta Phys. -Chim. Sin. 2010, 26, 2927. [张桥保, 冯增芳, 韩楠楠, 林玲玲, 周剑章, 林仲华. 物理化学学报, 2010, 26, 2927.]
doi: 10.3866/PKU.WHXB20101113
(17) Cao, W. L.; Zhang, K. H.; Zhang, J. C. Chin. J. Inorg. Chem. 2002, 18, 997. [曹维良, 张凯华, 张敬畅. 无机化学学报, 2002, 18, 997.]
(18) Xi, Y. Y.; Zhou, J. Z.; Zhang, Y.; Dong, P.; Cai, C. D.; Huang, H. G.; Lin, Z. H. Chem. J. Chin. Univ. 2004, 25, 2322. [席燕燕, 周剑章, 张彦, 董平, 蔡成东, 黄怀国, 林仲华. 高等化学学报, 2004, 25, 2322.]
(19) Karami, H.; Kaboli, A. Int. J. Electrochem. Sci. 2010, 5, 706.
(20) Lade, S. J.; Lokhande, C. D. Mater. Chem. Phys. 1997, 49, 160. doi: 10.1016/S0254-0584(97)01881-6
(21) Kadirgan, F.; Mao, D. L.; Song, W. J.; Ohno, T.; McCandless, B. Turk. J. Chem. 2000, 24, 21.
(22) Zhang, X. J.; Zhao, Q. R.; Tian, Y. P.; Xie, Y. Cryst. Growth Des. 2004, 4, 355. doi: 10.1021/cg0341555
(23) Huang, H. G.; Xi, Y. Y.; Zheng, Z. X.; Yan, J. W.; Zhou, J. Z.; Wu, L. L.; Lin, Z. H. Electrochemistry 2001, 8, 195. [黄怀国, 席燕燕, 郑志新, 颜佳伟, 周剑章, 吴玲玲, 林仲华. 电化学, 2001, 8, 195.]
(24) Zhang, H. P.; Luo, J.; Huang, H. G.; Wu, L. L.; Lin, Z. H. Chem. J. Chin. Univ. 1999, 20, 624. [张红平, 罗谨, 黄怀国, 吴玲玲, 林仲华. 高等学校化学学报, 1999, 20, 195.]
(25) Luo, J.; Zhang, H. P.; Huang, H. G.; Wu, L. L.; Lin, Z. H. Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1999, 337, 157. doi: 10.1080/10587259908023401
(26) Huang, H. G.; Zheng, Z. X.; Luo, J.; Zhang, H. P.; Wu, L. L.; Lin, Z. H. Synth. Met. 2001, 123, 321. doi: 10.1016/S0379-6779(01)00298-3
(27) Routkevitch, D.; Bigioni, T.; Moskovits, M.; Xu, J. M. J. Phys. Chem. 1996, 100, 14037. doi: 10.1021/jp952910m
(28) Bicer, M.; Aydin, A. O.; Sisman, I. Electrochim. Acta 2010, 55, 3749. doi: 10.1016/j.electacta.2010.02.015
(29) Baranski, A. S.; Fawcett, W. R. J. Electrochem. Soc. 1984, 131, 2509. doi: 10.1149/1.2115349
(30) Nuzzo, R. G.; Allara, D. L. J. Am. Chem. Soc. 1983, 105, 4483. doi: 10.1021/ja00351a064 |