(1) Kondo, M.; Maeda, H.; Mizuguchi, M. Journal of Metals 1990,42, 36.
(2) Capuano, G. A.; Davenport,W. G. J. Electrochem. Soc. 1971,118, 1688. doi: 10.1149/1.2407813
(3) Legrand, L.; Tranchant, A.; Messina, R. Electrochim. Acta 1994,39, 1427. doi: 10.1016/0013-4686(94)85054-2
(4) Hess, I. J.; Betz, J. F. Metal Finish 1971, 69, 38.
(5) Altgeld,W. Metalloberflache 1986, 40, 253.
(6) Ziegel, S.; Peled, E.; Gileadi, E. Electrochim. Acta 1978, 23,363. doi: 10.1016/0013-4686(78)80075-9
(7) Zein El Abedin, S.; Moustafa, E. M.; Hempelmann, R.; Natter,H.; Endres, F. Electrochem. Commun. 2005, 7, 1111. doi: 10.1016/j.elecom.2005.08.010
(8) Vaughan, J.; Dreisinger, D. J. Electrochem. Soc. 2008, 155, D68.
(9) Zein El Abedin, S.; Giridhar, P.; Schwab, P.; Endres, F.Electrochem. Commun. 2010, 12, 1084. doi: 10.1016/j.elecom.2010.05.034
(10) Gao, L. X.;Wang, L. N.; Qi, T.; Li, Y. P.; Chu, J. L.; Qu, J. K.Acta Phys. -Chim. Sin. 2008, 24, 939. [高丽霞, 王丽娜,齐涛, 李玉平, 初景龙, 曲景奎. 物理化学学报, 2008, 24,939.] doi: 10.1016/S1872-1508(08)60040-6
(11) Li, B.; Fan, C. H.; Chen, Y.; Lou, J.W.; Yan, L. G. Electrochim.Acta 2011, 56, 5478. doi: 10.1016/j.electacta.2011.03.047
(12) Kamavaram, V.; Mantha, D.; Reddy, R. G. J. Min. Metall.B-Metall. 2003, 39, 43. doi: 10.2298/JMMB0302043K
(13) Kamavaram, V.; Mantha, D.; Reddy, R. G. Electrochim. Acta2005, 50, 3286. doi: 10.1016/j.electacta.2004.12.002
(14) Jiang, T.; Chollier Brym, M. J.; Dubé, G.; Lasia, A.; Brisard, G.M. Surf. Coat. Technol. 2007, 201, 6309. doi: 10.1016/j.surfcoat.2006.11.035
(15) Pradhan, D.; Mantha, D.; Reddy, R. G. Electrochim. Acta 2009,54, 6661. doi: 10.1016/j.electacta.2009.06.059
(16) Pei, Q. F.; Hua, Y. X.; Li, Y.; Gong, K.;Wang, R.; Rao, S.; Li, P.Q. The Chinese Journal of Process Engineering 2012, 12, 247.[裴启飞, 华一新, 李艳, 龚凯, 汪瑞, 饶帅, 李丕强.过程工程学报, 2012, 12, 247.]
(17) Tang, J.W.; Azumi, K. Electrochim. Acta 2011, 56, 1130. doi: 10.1016/j.electacta.2010.10.056
(18) Koura, N.; Nagase, H.; Sato, A.; Kumakura, S.; Takeuchi, K.;Ui, K.; Tsuda, T.; Loong, C. K. J. Electrochem. Soc. 2008, 155,D155.
(19) Perre, E.; Nyholm, L.; Gustafsson, T.; Taberna, P. L.; Simon, P.Electrochem. Commun. 2008, 10, 1467. doi: 10.1016/j.elecom.2008.07.032
(20) Cammarata, L.; Kazarian, S. G.; Salterb, P. A.;Welton, T. Phys.Chem. Chem. Phys. 2001, 3, 5192. doi: 10.1039/b106900d
(21) Lai, P. K.; Skyllas-Kazacos, M. Electrochim. Acta 1987, 32,1443. doi: 10.1016/0013-4686(87)85083-1
(22) Melton, T. J.; Joyce, J.; Maloy, J. T.; Boon, J. A.;Wilkes, J. S.J. Electrochem. Soc. 1990, 137, 3865. doi: 10.1149/1.2086315
(23) Liu, Q.; Liu, Q. R.; Han, Q.; Tu, G. F. Journal of NortheasternUniversity (Naturnal Science) 2010, 31, 1149. [柳泉, 刘奎仁, 韩庆, 涂赣峰. 东北大学学报(自然科学版), 2010, 31,1149.]
(24) Hua, Y. X. Introduction to Kinetics of Processing Metallurgy;Metallurgical Industry Press: Beijing, 2004; pp 192-193.[华一新. 冶金过程动力学导论. 北京: 冶金工业出版社, 2004:192-193.]
(25) Zheng, H. J.; Ma, C. A.;Wang,W.; Huang, J. G. Electrochem.Commum. 2006, 8, 977. doi: 10.1016/j.elecom.2006.03.039
(26) Fannin, A. A., Jr.; Floreani, D. A.; King, L. A.; Landers, J. S.;Piersma, B. J.; Stech, D. J.; Vaughn, R. L.;Wilkes, J. S.;Williams, J. L. J. Phys. Chem. 1984, 88, 2614. doi: 10.1021/j150656a038 |