
物理化学学报 >> 1998, Vol. 14 >> Issue (11): 975-980.doi: 10.3866/PKU.WHXB19981104
张宜恒, 张广祥, 闫天堂, 俞书勤, 庄思永
Zhang Yi-Heng, Zhang Guang-Xiang, Yan Tian-Tang, Yu Shu-Qin, Zhuang Si-Yong
摘要:
利用X射线光电子能谱的原位氩离子束溅射和ESCA技术,研究了无电沉积前后照相明胶中硫元素化学形态的变化,对无电沉积所形成的导电膜进行了深度剖析,探讨了照相明胶层中金催化的铜无电沉积机理.结果表明:在酸性条件下(pH=3.20),明胶大分子的蛋氨酸亚砜对Au3+仍具有较大的还原能力,明胶大分子的蛋氨酸、蛋氨酸亚砜将Au3+最终还原为胶态金,而蛋氨酸和蛋氨酸亚砜均被氧化为蛋氨酸砜.在无电沉积初期,胶态金作为催化中心引发铜的无电沉积,之后的反应为Cu2+在新生态铜的自催化下的还原沉积.在无电沉积过程的碱性条件下(pH=12.50),明胶中的部分蛋氨酸砜又被甲醛还原为蛋氨酸.