
物理化学学报 >> 2001, Vol. 17 >> Issue (04): 324-328.doi: 10.3866/PKU.WHXB20010409
武海顺;许小红;张聪杰;金志浩
Wu Hai-Shun;Xu Xiao-Hong;Zhang Cong-Jie;Jin Zhi-Hao
摘要: 用HF自洽场理论和密度泛函理论(DFT)的B3LYP方法,在631G水平上研究了低聚物(Cl2AlNH2)n和(H2AlNH2)n(n=1~5)簇的几何构型、电子结构和聚合反应热力学性质,比较了两个系列化合物中化学键的强度.结果表明,Cl2AlNH2和H2AlNH2分子为C2 (EC)平面型结构,其中Al-N为由一个σ键和一个键组成的双键.(Cl2AlNH2)n和(H2AlNH2)n(n=1~5)分子为Dnh对称,Al-N是典型的σ单键 .低聚物(Cl2AlNH2)n和(H2AlNH2)n的稳定性顺序分别为: 3 > 2 > 4> 5 > 1和8 > 7 > 9 > 11 > 6.