物理化学学报 >> 2022, Vol. 38 >> Issue (1): 2012080.doi: 10.3866/PKU.WHXB202012080
所属专题: 石墨烯的功能与应用
收稿日期:
2020-12-29
录用日期:
2021-01-26
发布日期:
2021-02-03
通讯作者:
任文才
E-mail:wcren@imr.ac.cn
作者简介:
任文才,1973年出生。2005年获中国科学院金属研究所博士学位; 现为中国科学院金属研究所研究员、博士生导师,国家“杰出青年基金”获得者。主要研究方向为石墨烯等二维材料的制备、物性与应用
基金资助:
Lai-Peng Ma1,2, Wencai Ren1,2,*(), Hui-Ming Cheng1,2,3
Received:
2020-12-29
Accepted:
2021-01-26
Published:
2021-02-03
Contact:
Wencai Ren
E-mail:wcren@imr.ac.cn
About author:
Wencai Ren. Email: wcren@imr.ac.cnSupported by:
摘要:
表面电荷转移掺杂是调制石墨烯电学特性的重要手段。发展高效、稳定的表面电荷转移掺杂剂对于提高石墨烯的电学和光电性能、从而推动其在电子和光电领域中的应用具有重要意义。本文围绕高效与稳定两个方面综述了近年来石墨烯表面电荷转移掺杂剂的研究现状以及掺杂石墨烯在光电器件应用方面的进展。根据掺杂剂的类型,着重介绍了最新发展的高效p型和n型掺杂剂,并概述了稳定掺杂方面的重要研究工作。此外,专门介绍了基于掺杂石墨烯透明电极的高性能光电器件。最后,根据表面电荷转移掺杂研究面临的主要挑战,对其未来的发展方向进行了展望。
马来鹏, 任文才, 成会明. 表面电荷转移掺杂石墨烯的研究进展[J]. 物理化学学报, 2022, 38(1), 2012080. doi: 10.3866/PKU.WHXB202012080
Lai-Peng Ma, Wencai Ren, Hui-Ming Cheng. Progress in Surface Charge Transfer Doping of Graphene[J]. Acta Phys. -Chim. Sin. 2022, 38(1), 2012080. doi: 10.3866/PKU.WHXB202012080
表1
用于石墨烯的典型表面电荷转移掺杂剂"
Type | Dopant | Graphene No. of layers | Carrier concentration of doped graphene/cm-2 | Doping stability | Doping process | Ref. |
p-type | NO2 | 1 | ~4.5 × 1013 | Low | RT, low pressure | |
HNO3 | 1 | (1-2) × 1013 | Low | RT, solution immersion | ||
SOCl2 | 1 | 1.7 × 1013 | Low | 140 ℃, solution immersion | ||
HSbF6 | 1 | 2.5 × 1013 | Moderate | RT, solution immersion | ||
AuCl3 | 1 | ~5.8 × 1013 | Low | RT, solution immersion | ||
FeCl3 | 4 | 8.9 × 1014 | High | 360 ℃, vacuum | ||
MoCl5 | 2 | 1.4 × 1014 | Moderate | 225 ℃, vacuum | ||
MoOx | 1 | 2.5 × 1013 | Low | RT, vacuum deposition | ||
TFSA | 1 | ~2.4 × 1013 | Moderate | RT, solution immersion | ||
PFSA | 4 | 1.3 × 1013 | High | RT, spin coating | ||
P(VDF-TrFE) | 1 | 3 × 1013 | - | RT, polarization | ||
F13-SAM | 1 | < 1 × 1014 | - | RT, solution immersion | ||
Parylene | 1 | 1.2 × 1013 | - | RT, vacuum deposition | ||
HTB | 1 | 3.4 × 1013 | Moderate | RT, solution immersion | ||
GO | 1 | - | Moderate | RT, surface coating | ||
Amorphous carbon | 1 | 2 × 1013 | High | 400 ℃, vapor deposition | ||
n-type | Li | > 8 | 6 × 1014 | Low | RT, intercalation | |
K | 1 | 5.5 × 1014 | Low | RT, vacuum deposition | ||
PEI | 1 | 1.6 × 1013 | - | RT, solution immersion | ||
N2H4 | 1 | 0.7 × 1013 | - | RT, solution immersion | ||
TETA | 1 | 1.4 × 1013 | Low | 70 ℃, vapor treatment | ||
APTES-GO | 1 | 1.6 × 1013 | Low | RT, surface coating | ||
DRSP | 1 | 0.2 × 1013 | - | RT, solution immersion | ||
TiOx | 1 | 2 × 1013 | - | RT, illumination |
1 |
Bonaccorso F. ; Sun Z. ; Hasan T. ; Ferrari A. C. Nat. Photon. 2010, 4, 611.
doi: 10.1038/Nphoton.2010.186 |
2 |
Ellmer K. Nat. Photon. 2012, 6, 808.
doi: 10.1038/Nphoton.2012.282 |
3 |
Du J. H. ; Pei S. F. ; Ma L. P. ; Cheng H. M. Adv. Mater. 2014, 26, 1958.
doi: 10.1002/adma.201304135 |
4 |
Ma L. P. ; Wu Z. B. ; Yin L. C. ; Zhang D. D. ; Dong S. C. ; Zhang Q. ; Chen M. L. ; Ma W. ; Zhang Z. B. ; Du J. H. ; et al Proc. Natl. Acad. Sci. U. S. A. 2020, 117, 25991.
doi: 10.1073/pnas.1922521117 |
5 |
Qiu C. G. ; Liu F. ; Xu L. ; Deng B. ; Xiao M. M. ; Si J. ; Lin L. ; Zhang Z. Y. ; Wang J. ; Guo H. ; et al Science 2018, 361, 387.
doi: 10.1126/science.aap9195 |
6 |
Biswas C. ; Lee Y. H. Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 3806.
doi: 10.1002/adfm.201101241 |
7 |
Das A. ; Pisana S. ; Chakraborty B. ; Piscanec S. ; Saha S. K. ; Waghmare U. V. ; Novoselov K. S. ; Krishnamurthy H. R. ; Geim A. K. ; Ferrari A. C. ; et al Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 210.
doi: 10.1038/nnano.2008.67 |
8 |
Zhu H. Y. ; Gan X. ; McCreary A. ; Lv R. T. ; Lin Z. ; Terrones M. Nano Today 2020, 30, 100829.
doi: 10.1016/j.nantod.2019.100829 |
9 | Lin, L.; Li, J. Y.; Yuan, Q. H.; Li, Q. C.; Zhang, J. C.; Sun, L. Z.; Rui, D. R.; Chen, Z. L.; Jia, K. C.; Wang, M. Z.; et al. Sci. Adv. 2019, 5, eaaw8337. doi: 10.1126/sciadv.aaw8337 |
10 |
Zhang X. J. ; Shao Z. B. ; Zhang X. H. ; He Y. Y. ; Jie J. S. Adv. Mater. 2016, 28, 10409.
doi: 10.1002/adma.201601966 |
11 |
Liu H. T. ; Liu Y. Q. ; Zhu D. B. J. Mater. Chem. 2011, 21, 3335.
doi: 10.1039/c0jm02922j |
12 |
Bae S. ; Kim H. ; Lee Y. ; Xu X. F. ; Park J. S. ; Zheng Y. ; Balakrishnan J. ; Lei T. ; Kim H. R. ; Song Y. I. ; et al Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 574.
doi: 10.1038/Nnano.2010.132 |
13 |
Kasry A. ; Kuroda M. A. ; Martyna G. J. ; Tulevski G. S. ; Bol A. A. ACS Nano 2010, 4, 3839.
doi: 10.1021/nn100508g |
14 |
Wang Y. ; Tong S. W. ; Xu X. F. ; Ozyilmaz B. ; Loh K. P. Adv. Mater. 2011, 23, 1514.
doi: 10.1002/adma.201003673 |
15 |
Ma L. P. ; Dong S. C. ; Chen M. L. ; Ma W. ; Sun D. M. ; Gao Y. ; Ma T. ; Cheng H. M. ; Ren W. C. ACS Appl. Mater. Interfaces 2018, 10, 40756.
doi: 10.1021/acsami.8b13686 |
16 |
Jung N. ; Kim N. ; Jockusch S. ; Turro N. J. ; Kim P. ; Brus L. Nano Lett. 2009, 9, 4133.
doi: 10.1021/nl902362q |
17 |
Crowther A. C. ; Ghassaei A. ; Jung N. ; Brus L. E. ACS Nano 2012, 6, 1865.
doi: 10.1021/nn300252a |
18 |
Yuan J. T. ; Ma L. P. ; Pei S. F. ; Du J. H. ; Su Y. ; Ren W. C. ; Cheng H. M. ACS Nano 2013, 7, 4233.
doi: 10.1021/nn400682u |
19 |
Khrapach I. ; Withers F. ; Bointon T. H. ; Polyushkin D. K. ; Barnes W. L. ; Russo S. ; Craciun M. F. Adv. Mater. 2012, 24, 2844.
doi: 10.1002/adma.201200489 |
20 |
Ho P. H. ; Chen C. H. ; Shih F. Y. ; Chang Y. R. ; Li S. S. ; Wang W. H. ; Shih M. C. ; Chen W. T. ; Chiu Y. P. ; Li M. K. ; et al Adv. Mater. 2015, 27, 7809.
doi: 10.1002/adma.201503592 |
21 |
Kinoshita H. ; Jeon I. ; Maruyama M. ; Kawahara K. ; Terao Y. ; Ding D. ; Matsumoto R. ; Matsuo Y. ; Okada S. ; Ago H. Adv. Mater. 2017, 29, 1702141.
doi: 10.1002/adma.201702141 |
22 |
Park I. J. ; Kim T. I. ; Yoon T. ; Kang S. ; Cho H. ; Cho N. S. ; Lee J. I. ; Kim T. S. ; Choi S. Y. Adv. Funct. Mater. 2018, 28, 1704435.
doi: 10.1002/Adfm.201704435 |
23 |
Kim K. K. ; Reina A. ; Shi Y. M. ; Park H. ; Li L. J. ; Lee Y. H. ; Kong J. Nanotechnology 2010, 21, 285205.
doi: 10.1088/0957-4484/21/28/285205 |
24 |
Chandramohan S. ; Seo T. H. ; Janardhanam V. ; Hong C. H. ; Suh E. K. Appl. Surf. Sci. 2017, 418, 258.
doi: 10.1016/j.apsusc.2017.01.097 |
25 |
Farmer D. B. ; Golizadeh-Mojarad R. ; Perebeinos V. ; Lin Y. M. ; Tulevski G. S. ; Tsang J. C. ; Avouris P. Nano Lett. 2009, 9, 388.
doi: 10.1021/nl803214a |
26 |
Dong X. C. ; Fu D. L. ; Fang W. J. ; Shi Y. M. ; Chen P. ; Li L. J. Small 2009, 5, 1422.
doi: 10.1002/smll.200801711 |
27 |
Yokota K. ; Takai K. ; Enoki T. Nano Lett. 2011, 11, 3669.
doi: 10.1021/nl201607t |
28 |
Tongay S. ; Berke K. ; Lemaitre M. ; Nasrollahi Z. ; Tanner D. B. ; Hebard A. F. ; Appleton B. R. Nanotechnology 2011, 22, 425701.
doi: 10.1088/0957-4484/22/42/425701 |
29 |
Lee W. H. ; Suk J. W. ; Lee J. ; Hao Y. F. ; Park J. ; Yang J. W. ; Ha H. W. ; Murali S. ; Chou H. ; Akinwande D. ; et al ACS Nano 2012, 6, 1284.
doi: 10.1021/nn203998j |
30 |
Li N. ; Oida S. ; Tulevski G. S. ; Han S. J. ; Hannon J. B. ; Sadana D. K. ; Chen T. C. Nat. Commun. 2013, 4, 2294.
doi: 10.1038/Ncomms3294 |
31 |
Wei P. ; Liu N. ; Lee H. R. ; Adijanto E. ; Ci L. J. ; Naab B. D. ; Zhong J. Q. ; Park J. ; Chen W. ; Cui Y. ; et al Nano Lett. 2013, 13, 1890.
doi: 10.1021/nl303410g |
32 |
Yun J. M. ; Park S. ; Hwang Y. H. ; Lee E. S. ; Maiti U. ; Moon H. ; Kim B. H. ; Bae B. S. ; Kim Y. H. ; Kim S. O. ACS Nano 2014, 8, 650.
doi: 10.1021/nn4053099 |
33 |
Sojoudi H. ; Baltazar J. ; Tolbert L. ; Henderson C. ; Graham S. Adv. Mater. Interfaces 2014, 1, 1400378.
doi: 10.1002/admi.201400378 |
34 |
Lee B. H. ; Lee J. H. ; Kahng Y. H. ; Kim N. ; Kim Y. J. ; Lee J. ; Lee T. ; Lee K. Adv. Funct. Mater. 2014, 24, 1847.
doi: 10.1002/adfm.201302928 |
35 |
Cha M. J. ; Song W. ; Kim Y. ; Jung D. S. ; Jung M. W. ; Lee S. I. ; Adhikari P. D. ; An K. S. ; Park C. Y. RSC Adv. 2014, 4, 37849.
doi: 10.1039/c4ra04518a |
36 |
Kim S. J. ; Ryu J. ; Son S. ; Yoo J. M. ; Park J. B. ; Won D. ; Lee E. K. ; Cho S. P. ; Bae S. ; Cho S. ; et al Chem. Mater. 2014, 26, 2332.
doi: 10.1021/cm500335y |
37 |
Kim Y. ; Ryu J. ; Park M. ; Kim E. S. ; Yoo J. M. ; Park J. ; Kang J. H. ; Hong B. H. ACS Nano 2014, 8, 868.
doi: 10.1021/nn405596j |
38 |
Xu W. ; Wang L. ; Liu Y. ; Thomas S. ; Seo H. K. ; Kim K. I. ; Kim K. S. ; Lee T. W. Adv. Mater. 2015, 27, 1619.
doi: 10.1002/adma.201405353 |
39 |
Han T. H. ; Kwon S. J. ; Li N. N. ; Seo H. K. ; Xu W. T. ; Kim K. S. ; Lee T. W. Angew. Chem. Int. Edit. 2016, 55, 6197.
doi: 10.1002/anie.201600414 |
40 |
Seo S. W. ; Lee H. S. ; Shin D. H. ; Kim J. H. ; Jang C. W. ; Kim J. M. ; Kim S. ; Choi S. H. Nanotechnology 2017, 28, 425203.
doi: 10.1088/1361-6528/aa8533 |
41 |
Kwon S. J. ; Han T. H. ; Ko T. Y. ; Li N. ; Kim Y. ; Kim D. J. ; Bae S. H. ; Yang Y. ; Hong B. H. ; Kim K. S. ; et al Nat. Commun. 2018, 9, 2037.
doi: 10.1038/s41467-018-04385-4 |
42 |
He H. ; Kim K. H. ; Danilov A. ; Montemurro D. ; Yu L. Y. ; Park Y. W. ; Lombardi F. ; Bauch T. ; Moth-Poulsen K. ; Lakimov T. ; et al Nat. Commun. 2018, 9, 3956.
doi: 10.1038/s41467-018-06352-5 |
43 |
Yu J. J. ; Zhang M. J. ; He J. J. ; Zhang C. F. ; Cui W. W. ; Wang N. ; Huang C. S. Appl. Surf. Sci. 2019, 463, 900.
doi: 10.1016/j.apsusc.2018.09.021 |
44 |
Bianco G. V. ; Sacchetti A. ; Milella A. ; Grande M. ; D'Orazio A. ; Capezzuto P. ; Bruno G. Carbon 2020, 170, 75.
doi: 10.1016/j.carbon.2020.07.038 |
45 |
Tavakoli M. M. ; Azzellino G. ; Hempel M. ; Lu A. Y. ; Martin-Martinez F. J. ; Zhao J. Y. ; Yeo J. J. ; Palacios T. ; Buehler M. J. ; Kong J. Adv. Funct. Mater. 2020, 30, 2001924.
doi: 10.1002/adfm.202001924 |
46 |
Ni G. X. ; Zheng Y. ; Bae S. ; Tan C. Y. ; Kahya O. ; Wu J. ; Hong B. H. ; Yao K. ; Ozyilmaz B. ACS Nano 2012, 6, 3935.
doi: 10.1021/nn3010137 |
47 |
Kim H. ; Kim H. H. ; Jang J. I. ; Lee S. K. ; Lee G. W. ; Han J. T. ; Cho K. Adv. Mater. 2014, 26, 8141.
doi: 10.1002/adma.201403196 |
48 |
Seo Y. M. ; Cho H. J. ; Jang H. S. ; Jang W. ; Lim J. Y. ; Jang Y. ; Gu T. ; Choi J. Y. ; Whang D. Adv. Electron. Mater. 2018, 4, 1700622.
doi: 10.1002/aelm.201700622 |
49 |
Chugh S. ; Adhikar N. ; Lee J. H. ; Berman D. ; Echegoyen L. ; Kaul A. B. ACS Appl. Mater. Inter. 2019, 11, 24349.
doi: 10.1021/acsami.9b00603 |
50 |
Yang J. H. ; Yang H. W. ; Jun B. O. ; Shin J. H. ; Kim S. ; Jang A. R. ; Yoon S. I. ; Shin H. S. ; Park D. ; Park K. ; et al Adv. Funct. Mater. 2019, 29, 1808057.
doi: 10.1002/adfm.201808057 |
51 |
Gierz I. ; Riedl C. ; Starke U. ; Ast C. R. ; Kern K. Nano Lett. 2008, 8, 4603.
doi: 10.1021/nl802996s |
52 |
Ren Y. J. ; Chen S. S. ; Cai W. W. ; Zhu Y. W. ; Zhu C. F. ; Ruoff R. S. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 053107.
doi: 10.1063/1.3471396 |
53 |
Kim M. ; Kim K. J. ; Lee S. J. ; Kim H. M. ; Cho S. Y. ; Kim M. S. ; Kim S. H. ; Kim K. B. ACS Appl. Mater. Interfaces 2017, 9, 701.
doi: 10.1021/acsami.6b12622 |
54 |
Jung N. ; Kim B. ; Crowther A. C. ; Kim N. ; Nuckolls C. ; Brus L. ACS Nano 2011, 5, 5708.
doi: 10.1021/nn201368g |
55 |
Bao W. Z. ; Wan J. Y. ; Han X. G. ; Cai X. H. ; Zhu H. L. ; Kim D. H. ; Ma D. K. ; Xu Y. L. ; Munday J. N. ; Drew H. D. ; et al Nat. Commun. 2014, 5, 4224.
doi: 10.1038/Ncomms5224 |
56 |
Rosenzweig P. ; Karakachian H. ; Marchenko D. ; Kuster K. ; Starke U. Phys. Rev. Lett. 2020, 125, 176403.
doi: 10.1103/PhysRevLett.125.176403 |
57 |
Eda G. ; Lin Y. Y. ; Miller S. ; Chen C. W. ; Su W. F. ; Chhowalla M. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 233305.
doi: 10.1063/1.2937846 |
58 |
Cui T. X. ; Lv R. T. ; Huang Z. H. ; Chen S. X. ; Zhang Z. X. ; Gan X. ; Jia Y. ; Li X. M. ; Wang K. L. ; Wu D. H. ; et al J. Mater. Chem. A 2013, 1, 5736.
doi: 10.1039/c3ta01634j |
59 |
Ojeda-Aristizabal C. ; Santos E. J. G. ; Onishi S. ; Yan A. M. ; Rasool H. I. ; Kahn S. ; Lv Y. C. ; Latzke D. W. ; Velasco J. ; Crommie M. F. ; et al ACS Nano 2017, 11, 4686.
doi: 10.1021/acsnano.7b00551 |
60 |
Bult J. B. ; Crisp R. ; Perkins C. L. ; Blackburn J. L. ACS Nano 2013, 7, 7251.
doi: 10.1021/nn402673z |
61 |
De Sanctis A. ; Jones G. F. ; Wehenkel D. J. ; Bezares F. ; Koppens F. H. L. ; Craciun M. F. ; Russo S. Sci. Adv. 2017, 3, e1602617.
doi: 10.1126/sciadv.1602617 |
62 |
De Sanctis A. ; Barnes M. D. ; Amit I. ; Craciun M. F. ; Russo S. Nanotechnology 2017, 28, 124004.
doi: 10.1088/1361-6528/aa5ec0 |
63 |
Kim J. S. ; Kim B. J. ; Choi Y. J. ; Lee M. H. ; Kang M. S. ; Cho J. H. Adv. Mater. 2016, 28, 4803.
doi: 10.1002/adma.201505378 |
64 | Chen Z. L. ; Gao P. ; Liu Z. F. Acta Phys.-Chim. Sin. 2020, 36, 1907004. |
陈召龙; 高鹏; 刘忠范. 物理化学学报, 2020, 36, 1907004.
doi: 10.3866/PKU.WHXB201907004 |
|
65 |
Jia S. ; Sun H. D. ; Du J. H. ; Zhang Z. K. ; Zhang D. D. ; Ma L. P. ; Chen J. S. ; Ma D. G. ; Cheng H. M. ; Ren W. C. Nanoscale 2016, 8, 10714.
doi: 10.1039/c6nr01649a |
66 |
Zhang Z. K. ; Du J. H. ; Zhang D. D. ; Sun H. D. ; Yin L. C. ; Ma L. P. ; Chen J. S. ; Ma D. G. ; Cheng H. M. ; Ren W. C. Nat. Commun. 2017, 8, 14560.
doi: 10.1038/Ncomms14560 |
[1] | 徐涵煜, 宋雪旦, 张青, 于畅, 邱介山. 理论研究Cu@C2N催化剂表面上水分子对电催化CO2还原反应机理的影响[J]. 物理化学学报, 2024, 40(1): 2303040 - . |
[2] | 冀连连, 王现鹏, 张莹莹, 申学礼, 薛娣, 王璐, 王滋, 王文冲, 黄丽珍, 迟力峰. 有机-有机界面效应的原位及非原位研究[J]. 物理化学学报, 2024, 40(1): 2304002 - . |
[3] | 段欣漩, Sendeku Marshet Getaye, 张道明, 周道金, 徐立军, 高学庆, 陈爱兵, 邝允, 孙晓明. 钨掺杂镍铁水滑石高效电催化析氧反应[J]. 物理化学学报, 2024, 40(1): 2303055 - . |
[4] | 鲁航语, 侯瑞林, 褚世勇, 周豪慎, 郭少华. 高比能锂离子电池层状富锂正极材料改性策略研究进展[J]. 物理化学学报, 2023, 39(7): 2211057 -0 . |
[5] | 沈姗姗, 刘晓晖, 郭勇, 王艳芹. Fe的原位掺杂对Pt/Silicalite-1催化丙烷脱氢反应性能的提升作用[J]. 物理化学学报, 2023, 39(7): 2209043 -0 . |
[6] | 张珂瑜, 李云锋, 袁仕丹, 张洛红, 王倩. S型异质结H2O2光催化剂的研究进展[J]. 物理化学学报, 2023, 39(6): 2212010 - . |
[7] | 张明旭, 周琪森, 梅馨怡, 陈婧萱, 邱俊明, 李修志, 李霜, 于牧冰, 秦朝朝, 张晓亮. 贫PbI2基体的胶体量子点固体用于高效红外太阳能电池[J]. 物理化学学报, 2023, 39(3): 2210002 -0 . |
[8] | 吕浩亮, 王雪杰, 杨宇, 刘涛, 张留洋. 还原氧化石墨烯包覆MOF衍生In2Se3用于钠离子电池负极[J]. 物理化学学报, 2023, 39(3): 2210014 -0 . |
[9] | 刘真, 孟祥福, 古万苗, 查珺, 闫楠, 尤青, 夏楠, 王辉, 伍志鲲. 组合掺杂引入新型、多种镉配位方式增强金纳米团簇的电催化性能[J]. 物理化学学报, 2023, 39(12): 2212064 - . |
[10] | 王正慜, 洪庆玲, 王晓慧, 黄昊, 陈煜, 李淑妮. 氮掺杂石墨烯气凝胶锚定RuP纳米粒子用于水合肼氧化辅助产氢[J]. 物理化学学报, 2023, 39(12): 2303028 - . |
[11] | 廖珺豪, 赵一萱, 胡兆宁, 补赛玉, 陆琪, 尚明鹏, 贾开诚, 裘晓辉, 谢芹, 林立, 刘忠范. 光刻胶辅助的石墨烯晶圆无损转移[J]. 物理化学学报, 2023, 39(10): 2306038 - . |
[12] | 亓月, 孙禄钊, 刘忠范. 超级蒙烯材料:石墨烯家族的新成员[J]. 物理化学学报, 2023, 39(10): 2307028 - . |
[13] | 杨嘉炜, 郑春阳, 庞亚会, 纪仲阳, 李雨芮, 胡嘉仪, 朱江瑞, 陆琪, 林立, 刘忠范, 胡清梅, 关宝璐, 尹建波. 耦合蝶形天线的石墨烯室温太赫兹探测器[J]. 物理化学学报, 2023, 39(10): 2307012 - . |
[14] | 高振飞, 宋清泉, 肖志华, 李兆龙, 李涛, 罗家俊, 王珊珊, 周万立, 李兰英, 于俊荣, 张锦. 亚微米尺寸、高结晶度石墨烯增强间位芳纶纤维力学性能[J]. 物理化学学报, 2023, 39(10): 2307046 - . |
[15] | 刘若娟, 刘冰之, 孙靖宇, 刘忠范. 气相助剂辅助绝缘衬底上石墨烯生长:现状与展望[J]. 物理化学学报, 2023, 39(1): 2111011 -0 . |
|