(1) Antoniadou, M.; Lianos, P. Catal. Today 2009, 144, 166.
(2) Szabo-Bardos, E.; Zsilak, Z.; Horvath, O. Prog. Colloid Polym. Sci. 2008, 135, 21.
(3) María-José, L. M.; Rafael, V. G.; José, A. Catal. Today 2005, 101, 307.
(4) Xu, Y. M. Prog. Chem. 2009, 21 (2/3): 524. [许宜铭. 化学进展, 2009, 21 (2/3), 524.]
(5) Esquivel, K.; Arriaga, L. G.; Rodriguez, F. J.; Martinez, L.; Godinez, L. A. Water Res. 2009, 43, 3593.
(6) Hufschmidt, D.; Bahnemann, D.; Testa, J. J. J. Photochem. Photobio. A-Chem. 2002, 148, 223.
(7) Ren, X. C.; Shi, Z. F.; Kong, L. R. Chin. J. Catal. 2006, 27 (9), 815. [任学昌, 史载峰, 孔令仁. 催化学报, 2006, 27 (9), 815.]
(8) Hongfan, G.; Marianna, K.; Mikko, H.; Markku, L. Appl. Catal. B-Environ. 2010, 95 (3-4), 358.
(9) Ramírez-Meneses, E.; García-Murillo, A.; Carrillo-Romo, F. D. J.; García-Alamilla, R. Sol-Gel Sci. Technol. 2009, 52, 267.
(10) Hosseini, Z.; Taghavinia, N.; Sharifi, N.; Chavoshi, M.; Rahman, M. J. Phys. Chem. C 2008, 121 (47),18686.
(11) Peralta-Hernández, J. M.; Manríquez, J.; Meas-Vong, Y. J. Hazard. Mater. 2007, 147, 588.
(12) Liu, S. Y.;Wu, L. D.; Zhao, Z. X.; Feng, Q. G.;Wang, X.; Yang, C. D. J. Inorg. Mater. 2009, 24 (5), 902. [刘少友, 吴林东, 赵钟兴, 冯庆革, 王翔, 杨朝德. 无机材料学报, 2009, 24 (5), 902.]
(13) Fan, C. L.; Priron D. L.; Sieb, A.; Paradis, P. J. Electrochem Soc. 1994, 141 (2), 382.
(14) Mei, Y.; Jia, Z. B.; Qiu, L.; Cao, J. L.; Zhang, Y. F.;Wei, Y. Acta Energiae Solaris Sinica 2002, 23 (2), 199. [梅燕, 贾振斌, 邱丽, 曹江林, 张艳峰, 魏雨. 太阳能学报, 2002, 23 (2), 199.]
(15) Wu, J. M.; Huang, B.; Zeng, Y. H. Thin Solid Films 2006, 497 (1-2), 292.
(16) Paula, P.; Liana, A.; Teodor, V. U. P. B. Sci. Bull. Series B 2010, 72 (4), 11.
(17) Fan, X. Metal X-Ray Diffractometry; China Mechine Press: Beijing, 1996; p45. [范雄. 金属X射线衍射学. 北京: 机械工业出版社, 1996: 45.]
(18) Wang, J. Q.; Xin, B. F.; Yu, H. T.; Xie, Y. T.; Zhao, B.; Fu, H. G. Chem. J. Chin. Univ. 2003, 24, 1237. [王建强, 辛柏福, 于海涛, 谢玉涛, 赵冰, 付宏刚. 高等学校化学学报, 2003, 24, 1237.]
(19) Li, X. Z.; He, C.; Graham, N.; Xiong, Y. J. Appl. Electrochem. 2005, 35, 741.
(20) Zhang, Y. R.;Wang, J.; Ke, Y. Q. J. Hazard. Mater. 2010, 177 (1-3), 750.
(21) Nosaka, Y.; Daimon, T.; Nosaka, A. T. Phys. Chem. Chem. Phys. 2004, 6, 2917.
(22) You, X. F.; Chen, F.; Zhang, J. L.; Huang, J. Z.; Zhang, L. Z. Chin. J. Catal. 2006, 27 (3), 270. [尤先锋, 陈锋, 张金龙, 黄家桢, 张利中. 催化学报, 2006, 27 (3), 270.]
(23) Han, S. T.; Xi, H. L.; Shi, R. X.; Fu, X. Z.;Wang, X. X. Chin. J. Chem. Phys. 2003, 16 (5), 339. [韩世同, 习海玲, 史瑞雪, 付贤智, 王绪绪. 化学物理学报, 2003, 16 (5), 339.]
(24) Yang, J.; Dai, J.; Zhao, J. C.; Miu, J. Chin. Sci. Bull. 2009, 54 (15), 2196. [杨娟, 戴俊, 赵进才, 缪娟. 科学通报, 2009, 54 (15), 2196.]
(25) Ji, H.W.; Ma,W. H.; Hang, Y. P.; Zhao, J. C.;Wang, Z. P. Chin. Sci. Bull. 2003, 48 (21), 2199. [籍宏伟, 马万红, 黄应平, 赵进才, 王正平. 科学通报, 2003, 48 (21), 2199.] |