
物理化学学报 >> 2006, Vol. 22 >> Issue (04): 507-512.doi: 10.3866/PKU.WHXB20060423
汤儆;马信洲;何辉忠;张力;林密旋;曲东升;丁庆勇;孙立宁
TANG Jing;MA Xin-Zhou;HE Hui-Zhong;ZHANG Li;LIN Mi-Xuan;QU Dong-Sheng2 DING Qing-Yong;SUN Li-Ning
摘要: 利用微圆盘电极技术, 测定了KBr、L-胱氨酸和硫酸组成的刻蚀溶液体系中Pt电极表面电化学氧化产生的刻蚀剂Br2浓度分布, 为约束刻蚀剂层技术(CELT)中刻蚀体系的选择和优化提供更直观的依据. GaAs表面CELT微加工实验证明了用微圆盘电极测得的表面刻蚀剂的浓度分布趋势与微加工实验所得到的结果一致