(1) Chow, R. S.; Falabella, G. E.; Loomis, F.; Rainer, C. J.; Stolz, M.; Kozlowski, R. Appl. Opt. 1993, 32, 5567. doi: 10.1364/AO.32.005567
(2) Waldorf, A. J.; Dobrowolski, J.; Sullivan, A. B. T.; Plante, L. M. Appl. Opt. 1993, 32, 5583. doi: 10.1364/AO.32.005583
(3) Houssa, M. High-k Gate Dielectrics; Institute of Physics: Bristol and Philadelphia, 2004.
(4) Copel, M.; Gribelyuk, M.; Gusev, E. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 436. doi: 10.1063/1.125779
(5) Jeon, T. S.; White, J. M.; Kwong, D. L. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 368. doi: 10.1063/1.1339994
(6) Qi,W. J.; Nieh, R.; Lee, B. H.; Kang, L.; Joen, Y. J.; Lee, J. C. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 3269. doi: 10.1063/1.1326482
(7) Gusev, E. P.; Cartier, E. D.; Buchanan, A.; Gribelyuk, M.; Copel, M.; Okorn-Schmidt, H.; Emic, C. D. Microelectron. Eng. 2001, 59, 341. doi: 10.1016/S0167-9317(01)00667-0
(8) Wilk, G. D.;Wallace, R. M.; Anthony, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243. doi: 10.1063/1.1361065
(9) Houssa, M.; Afanas'ev, V. V.; Stesmans, A.; Heyns, M. M. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1885. doi: 10.1063/1.1310635
(10) Lee, B. H.; Kang, L.; Nieh, R.; Qi,W. J.; Lee, J. C. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1926. doi: 10.1063/1.126214
(11) Gusev, E. P.; Cabral, C.; Copel, J. M.; D'Emic, C.; Gribelyuk, M. Microelectron. Eng. 2003, 69, 145. doi: 10.1016/S0167-9317(03)00291-0
(12) Lee, S. J.; Jeon, T. S.; Kwong, D. L.; Clark, R. J. Appl. Phys. 2002, 92, 2807. doi: 10.1063/1.1500420
(13) Kukli, K.; Ritala, M.; Sundqvist, J.; Aarik, J.; Lu, J.; Sajavaara, T.; Leskela, M.; Harsta, A. J. Appl. Phys. 2002, 92, 5698. doi: 10.1063/1.1515107
(14) Cho, M. H.; Roh, Y. S.; Whang, C. N.; Jeong, K.; Nahm, S.W.; Ko, D. H.; Lee, J. H.; Lee, N. I.; Fujihara, K. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 472. doi: 10.1063/1.1487923
(15) Kim, J.; Kim, S.; Jeon, H.; Cho, M. H.; Chung, K. B.; Bae, C. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 053108. doi: 10.1063/1.2005370
(16) Lee, S. J.; Choi, C. H.; Kamath, A.; Clark, R.; Kwong, D. L. IEEE Electron Device Lett. 2003, 24, 105. doi: 10.1109/LED.2002.807712
(17) Huff, H. R. Microelectron. Eng. 2003, 69, 152. doi: 10.1016/S0167-9317(03)00292-2
(18) Busch, B.W.; Schulte,W. H.; Garfunkel, E.; Gustafsson, T.; Qi, W.; Nieh, R.; Lee, J. Phys. Rev. B 2000, 62, 13290. doi: 10.1103/PhysRevB.62.R13290
(19) Brossman, U.;Wurschum, R.W.; Sodervall, U.; Schaefer, H. E. J. Appl. Phys. 1999, 85, 7646. doi: 10.1063/1.370567
(20) Martin, D.; Duprez, D. J. Phys. Chem. 1996, 100, 9429. doi: 10.1021/jp9531568
(21) Chavez, J. R.; Devine, R. A. B.; Koltunski, L. J. Appl. Phys. 2001, 90, 4284. doi: 10.1063/1.1401796
(22) Foster, A. S.; Sulimov, V. B.; Gejo, F. L.; Shluger, A. L.; Nieminen, R. M. Phys. Rev. B 2001, 64, 224108. doi: 10.1103/PhysRevB.64.224108
(23) Deng, Z.W.; Guo,W. M.; Liu, H. M.; Cao, L. L. Acta Phys. -Chim. Sin. 1999, 15, 528. [邓宗武, 郭伟民, 刘焕明, 曹立礼. 物理化学学报, 1999, 15, 528.] doi: 10.3866/PKU.WHXB19990609
(24) Wang, F. F.; Cao, Z. M.; Chen, J.; Xing, X. R. Acta Phys. -Chim. Sin. 2014, 30, 1432. [王方方, 曹战民, 陈骏, 邢献然. 物理化学学报, 2014, 30, 1432.] doi: 10.3866/PKU.WHXB201405281
(25) Robertson, J.; Xiong, K.; Falabretti, B. IEEE Trans. Device Mater. Reliab. 2005, 1, 84.
(26) Xiong, K.; Robertson, J.; Gibson, M. C.; Clark, S. J. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 183505. doi: 10.1063/1.2119425
(27) Foster, A. S.; Gejo, F. L.; Shluger, A. L.; Nieminen, R. M. Phys. Rev. B 2002, 65, 174117. doi: 10.1103/PhysRevB.65.174117
(28) Shen, C.; Li, M. F.;Wang, X. P.; Yu, H. Y.; Feng, Y. P.; Lim, A. T. L.; Yeo, Y. C.; Chan, Y. D. S. H.; Kwong, D. L. Tech. Dig. Int. Electron Devices Meet. 2004, 733.
(29) Kang, J.; Lee, E. C.; Chang, K. J.; Jin, Y. G. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3894. doi: 10.1063/1.1738946
(30) Zheng, J. X.; Ceder, G.; Maxisch, T.; Chim,W. K.; Choi,W. K. Phys. Rev. B 2007, 75, 104112. doi: 10.1103/PhysRevB.75.104112
(31) Perdew, J. P.; Burke, K.; Ernzerhof, M. Phys. Rev. Lett. 1996, 77, 3865. doi: 10.1103/PhysRevLett.77.3865
(32) Kresse, G.; Furthmüller, J. Phys. Rev. B 1996, 54, 11169. doi: 10.1103/PhysRevB.54.11169
(33) Kresse, G.; Joubert, D. Phys. Rev. B 1999, 59, 1758.
(34) Blöchl, P. E. Phys. Rev. B 1994, 50, 17953. doi: 10.1103/PhysRevB.50.17953
(35) Lee, J.; Han, S. Phys. Chem. Chem. Phys. 2013, 15, 18906.
(36) Batyrev, I. G.; Alavi, A.; Finnis, M.W. Phys. Rev. B 2000, 62, 4698.
(37) Finnis, M.W.; Lozovoi, A. Y.; Alavi, A. Ann. Rev. Mat. Res. 2005, 35, 167. doi: 10.1146/annurev.matsci.35.101503.091652
(38) Lide, D. R. CRC Handbook of Chemistry and Physics, Internet Version 2005 (http://www.hbcpnetbase.com); CRC Press: Boca Raton, FL, 2005. |