(1) Ichiro, K.; Tetsuya, O.; Hideo, S. J. Met. Finish. Soc. Jpn. 1983, 34, 600.
(2) Li, A. C.; Yao, S. W.; Zhao, S. L.; Guo, H. T. Surf. Technol. 1995, 24, 8.
[李爱昌, 姚素薇, 赵水林, 郭鹤桐. 表面技术, 1995, 24, 8.]
(3) Zhang, W. G.; Yao, S. W.; Zhao, Z. Q.; Gong, Z. L. Chin. J. Appl. Chem. 1995, 18, 790.
[张卫国, 龚正烈, 姚素薇, 赵转清. 应用化学, 1995, 18, 790.]
(4) Wang, L. B.; Wu, J.; Huang, Q. A.; Chen, Y. Y. J. Mater. Prot. 2000, 33, 1.
[王龙彪, 吴 俊, 黄清安, 陈永言. 材料保护, 2000, 33, 1.]
(5) Zhao, G. R.; Cai, Y. B. Chlor-Alkali Ind. 2000, 13.
[赵国瑞, 才玉斌. 氯碱工业, 2000, 13.]
(6) Jiang, Y.; Yao, S.; Zhang, W. Thin Solid Films 2008, 516, 3210.
(7) He, L.; Yao, S. W.; Zhang, W. G.; Wang, H. Z. Chem. Ind. Eng. Prog. 2005, 24, 718.
[李 贺, 姚素薇, 张卫国, 王宏智. 化工进展, 2005, 24, 718.]
(8) Han, Q.; Cui, S.; Pu, N.; Chen, J.; Liu, K.; Wei, X. Int. J. Hydrog. Energy 2010, 35, 5194.
(9) Paseka, I.; Velicka, J. Electrochim. Acta 1997, 42, 237.
(10) Lasia, A. J. Electroanal. Chem. 1998, 454, 115.
(11) Brewer, L. Science 1968, 161, 115.
(12) de Chialvo, M. R. G.; Chialvo, A. C. J. Electroanal. Chem. 1995, 388, 215.
(13) Correia, A. N.; Machado, S. A. S.; Avaca, L. A. Electrochem. Commun. 1999, 1, 600.
(14) Xiao, X. F.; Liu, R. F.; Zhu, Z. S. Acta Phys. -Chim. Sin. 1999, 15, 742.
[肖秀峰, 刘榕芳, 朱则善. 物理化学学报, 1999, 15, 742.]
(15) Solmaz, R.; D?ner, A.; Kardas, G. Electrochem. Commun. 2008, 10, 1909. |